Degradação de ibuprofeno por eletrólise sob plasma elétrico de alta tensão e baixa corrente, com sistema multieletrodos

Résumé

Foi feita a degradação do fármaco Ibuprofeno, por meio de eletrólise sob plasma elétrico de alta tensão e baixa corrente. Este é um processo eletrolítico não faradáico, onde o plasma é sustentado por descargas entre o ânodo e o eletrólito líquido no seu entorno, causando efeitos físicos e químicos variados, produzindo espécies químicas radicalares e moleculares, todos de alta reatividade. Na célula eletroquímica utilizada os ânodos de fios de platina ficam expostos cerca de 1,5 mm na solução enquanto o cátodo de grafite espectroscópico fica envolto por um tubo de plástico com furos laterais. A diferença de potencial foi mantida em 625 volts nos experimentos de medidas temporais de produção de H₂O₂, observando-se um aumento exponencial na concentração em função do tempo de aplicação do plasma, tendendo à estabilidade após 40 minutos. A geração de H₂O₂ de acordo com o número de ânodos adicionados não é linear, aparentemente devido a pequenas diferenças dos ânodos de platina. Para o estudo da degradação do Ibuprofesno foi feito um planejamento fatorial com as variáveis eletrólito, número de ânodos e diferença de potencial. O acompanhamento da degradação foi realizado por varreduras espectrais no ultravioleta, nos tempos de 0, 30 e 60 minutos após a ignição do plasma. Ocorreu uma redução substancial da banda de absorção do ibuprofeno em 222 nm. Para as soluções em que se trabalhou com dois eletrodos, apareceu uma banda de absorção em 210 nm. Esta banda desapareceu após 60 minutos de aplicação do plasma, aparentemente devido a existência de uma espécie intermediária facilmente degradável, uma vez que a banda não aparece quando se utiliza mais eletrodos. Pelas medições de Carbono Orgânico Total obteve-se degradações acima de 90% após 60 minutos de aplicação do plasma, para algumas soluções, provavelmente devido a um efeito sinérgico, pela combinação de variáveis destas soluções no planejamento.